来自nikonrumors的最新消息,1月23日尼康与卡尔·蔡司、ASML就光刻机技术侵权问题签署谅解备忘录,卡尔·蔡司、ASML两家公司同意向尼康支付1.5亿欧元赔偿款。该谅解备忘录是一项具有约束力的协议,其中涉及尼康与卡尔·蔡司、ASML在欧洲、日本以及美国市场所有未解决的争议。预计这三家公司将于2019年2月开始执行该和解协议,与此同时法院也驳回了双方之间的法律诉讼。除了卡尔·蔡司、ASML两家公司将向尼康支付1.5亿欧元赔偿款之外,自最终协议签署之日起10年时间内,这两家公司还将向尼康支付销售额0.8%的浸没式光刻系统专利特许使用费。
背景:2017年4月,尼康公司宣布正式对荷兰的ASML公司和德国蔡司公司启动法律程序,控告两家公司在未经尼康公司授权及许可的情况下使用尼康的光刻机技术。两家公司中,前者为目前半导体光刻机领域的领导品牌之一,后者则是ASML的光学供应商及世界著名的光学企业。
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